Tetramethylammoniumhydroxid

Tetramethylammoniumhydroxid (CAS 75-59-2), allgemein als TMAH abgekürzt, ist eine quartäre Ammoniumbase, die in der Halbleiterfertigung, der pharmazeutischen Synthese und der Analytischen Chemie eingesetzt wird.

Es wirkt als starke, metallfreie Base und ist daher die bevorzugte Wahl überall dort, wo eine Kontamination durch anorganische Basen nicht tolerierbar ist. In der Halbleiter- und Flachbildschirmfertigung ist TMAH die Standardentwicklerlösung.

Diese Lösung dient der Photolack-Entfernung und -Strukturierung, wobei das metallfreie Profil eine ionische Verunreinigung der Waferoberflächen verhindert. Pharmazeutische Unternehmen nutzen es als Katalysator und pH-regulierendes Mittel.

Diese Syntheseschritte erfordern eine saubere Base ohne Einbringung von Natrium- oder Kaliumionen. In analytischen Laboratorien wird TMAH als Quaternierungsreagenz für die GC-Probenvorbereitung eingesetzt.

Dadurch wird die direkte Injektion von Fettsäure- und biologischen Proben ermöglicht. Darüber hinaus unterstützt es das Ätzen von Silizium-Wafern in der MEMS-Fertigung, wo präzise anisotrope Ätzraten entscheidend sind.

TMAH wird als wässrige Lösung geliefert, am häufigsten in einer Konzentration von 25 %, wobei niedrigere Konzentrationen wie 5 % und 10 % für spezifische Prozessanforderungen erhältlich sind.

Die Pentahydrat-Feststoffform ist ebenfalls kommerziell verfügbar für Anwendungen, die eine dosierte Zugabe oder logistische Vorteile beim Transport erfordern. Elektronikqualität und Reagenzqualität sind die wichtigsten Marktgüten.

Das Material in Elektronikqualität entspricht strengen Grenzwerten für Metallverunreinigungen, die für Halbleiterprozessumgebungen geeignet sind und höchste Reinheit garantieren.